[叶檀看股市]沪指失守 一片哀嚎！制裁之下 它却逆势上扬！？
这周五，沪指失守3400点，下跌了1.95%，这也是今年3月16日大跌以来的最大单日跌幅。
不过，也有板块延续前几日的势头，依旧实现强势上涨：
周四，光刻胶领涨各大版块；周五，光刻胶板块仍然实现了整体上涨。
不看不知道，年初至今，领涨光刻胶的蓝英装备、晶方科技、安集科技和容大感光的涨幅已经超过了200%，羡煞旁人。
逆市上扬 羡煞旁人！
在周四的文章《震惊A股 羡煞旁人！纷纷涨停背后 竟有暗雷丛生？！》中，刀姐介绍了光刻胶板块的上涨逻辑，并指出了其中重要的一个关键点：要投就投中高端的光刻胶龙头！
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为什么？
简单来说，我国光刻胶在低端应用领域已基本满足自给，但是在高端产品方面仍然需要突破。
光刻胶分三个细分领域：半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶，其中半导体光刻胶代表了最先进的光刻胶技术。
全球光刻胶行业呈现寡头垄断格局，日本光刻胶公司领跑，日本JSR、东京应化、信越化学、富士电子材料四家企业市占率高达72%。大陆企业份额不足10%，且国内供应以PCB光刻胶为主，占到95%。
虽然国内光刻胶需求不断上涨，但是国内光刻胶仍十分依赖进口，半导体光刻胶和LCD光刻胶几乎全靠进口，顺便提一下，能自产的PCB光刻胶的生产原料也依赖进口。 在半导体制造中，光刻胶及其配套设备起到支撑产业链的关键作用，光刻胶的质量直接影响到半导体集成电路/器件的制程精度。
为了保证高精度光刻的质量，如7/5nmIC制程，好的光刻胶必须满足高分辨度、高敏感度、高对比度等技术指标。因此，光刻胶是支撑产业链的关键材料。
在国际博弈中，光刻胶是我国半导体产业最大软肋之一，无法自产会使本土产业受制于人，容易“卡脖子”。
2019年日本断供韩国半导体原料的事件说明，只有关键材料国产化才能更好保证产业发展。供需矛盾加剧下，光刻胶国产化迫在眉睫。
总之，光刻胶的低端领域已经没有太大的发展空间，光刻胶的爆发力，肯定是在高端产品方面。
不管是公司，还是行业的上下游，都期待龙头公司能够突破高端光刻胶受制于人的局面，使光刻胶国产化由低端走向高端。
懂得了这个大方向，我们才能心有成竹，筛选真正的龙头企业。
龙头纵横 前景可期！
那么，就像许多檀香疑惑的一样，究竟什么才算龙头？
半导体光刻胶生产和研发企业目前主要有五家，分别为苏州瑞红（上市公司晶瑞股份子公司）、北京科华、南大光电、容大感光、上海新阳。
以下从半导体的三代光刻技术对于上述五家公司进行对比。
首先是G/I线光刻胶（436/365nm），目前的国产化率是三代光刻技术中最高的，占比15%。
其中北京科华已经可以实现I线光刻胶产能500吨/年；苏州瑞红则实现120吨/年（02专项）；容大感光则正在产能建设中。 其次是KrF/ArF光刻胶（248/193nm），目前除了北京科华的年产量（KrF）可以达到10吨，几乎全部都靠进口。
不过，苏州瑞红（KrF）已经进入产品中期测试阶段；上海新阳则预计6月份进入产品中期测试。
更为高端的ArF方面，北京科华已经实现了立项，处于研发阶段。
此外，今年5月22日，南大光电在互动平台表示，公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试，这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破，从研发开始走向生产。 根据南大光电公司之前的消息，公司于2017年开始研发“193nm光刻胶项目”，已获得国家“02专项”的相关项目立项，计划通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模。
最后，就是最“高级”的极紫外（EUV光刻胶）。
目前，国内只有北京科华参与的国家科技重大专项极紫外（EUV）光刻胶项目已通过验收。
不过，EUV光刻胶也不是目前急需的，因为国内目前还没有EUV工艺量产，193nm的ArF光刻胶更加重要。
可以看出，北京科华是当之无愧的龙头之一。虽然北京科华不属于未上市公司，但有两家上市公司是北京科华的持股股东。 最“疯狂”的当属近五个交易日便收获5个涨停板的彤程新材，据其7月9日发布的股价异动公告显示，公司全资子公司彤程电子受让北京科华33.70%的股权并完成工商变更登记。
此外，上市公司高盟新材也在去年从南大光电的手里买下了3.67%的股权。
北京科华成立于2004年8月，是中国第一家生产光刻胶的公司，创始人陈昕是一个典型的工科女生，1990年美国马萨诸赛州立大学高分子专业研究生毕业，毕业后先在一家美国光刻胶公司工作，后作为创始人之一在美国创建了MCC光刻胶公司，2004年回国创业。
值得一提的是，科华微电子是目前国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，其最小分辨率可达0.11um。通过与客户晶圆厂同样的检测设备配置，实现了上下游产品检测的无缝对接。
除了通过投资北京科华进军光刻胶行业的彤程新材和高盟新材，曾经主营业务为汽车用改性塑料产品的普特利，也在去年通过投资了王晓伟博士的光刻胶公司——苏州理硕科技有限公司，成功进军光刻胶行业。
该公司目前正处于产品研发阶段，主要方向是KrF和ArF、TFT、PSPI等光刻胶产品的企业。
关于王晓伟博士，业内评价很高，有谓之“光刻胶第一人”，是日本和美国光工程学会会员，多年在日本从事EUV光刻胶的量产化工作，长期与JSR、信越公司竞争。
如此来看，光刻胶行业可谓是朝气蓬勃，欣欣向荣。 但是，尤其需要注意的是，光刻胶质量依赖于上游原材料，但高端光刻胶原材料被高度垄断，我国只能进口。
所以，国内光刻胶龙头企业在启动ArF光刻胶项目时，仍需要承受原材料被封锁的风险。
对这种情况，国际巨头的操作是：向产业上游伸出手，达到生产自给自足的目的。当然，国内也有厂商借鉴了这种模式来降低风险。
比如说上海新阳，就选择了与合作伙伴同时开发关键原材料，来确保ArF项目的原材料供应不至于某一天突然被“短缺”。
综上所述，光刻是芯片制造中的关键一环，光刻胶也是光刻过程中不可忽视的重要板块，集中力量突破技术天擎，仍是未来长时间内的主题。
光刻胶，如此美丽，虽然朦胧，仍值得一等。
