有报道称，荷兰光刻机巨头ASML将暂时中止为“中国客户”供应“极紫外光(EUV)微影设备”。中芯国际回应称：极紫外光（EUV）还在纸面工作阶段，未进行相关活动。ASML称，出口EUV到中国需取得荷兰政府的出口许可（export license）。该出口许可于今年到期，ASML已经于到期前重新进行申请，目前正在等待荷兰政府核准。
点评：光刻机是半导体制造业中关键设备，直接决定芯片的性能水平。芯片在生产过程中需要进行20-30次的光刻，耗时占到制造环节的50%左右，占芯片生产成本的1/3。目前ASML在光刻机领域市占率近80%，基本垄断高端光刻机。光刻机是重要的卡脖子领域，国产化迫在眉睫。
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