日前美国商务部宣布新的出口管制措施,旨在限制中国等国家通过民用商业渠道获得军用的电子元器件和设备、技术等。在增补的出口管制产品中,增加了“用于光刻工艺,尤其是为370至245nm波长优化的正型光刻胶”。有业内人士表示,主要是KrF光刻胶,此次的出口管制条例修订不止针对华为,对中国,也不仅仅是集成电路企业。
点评:光刻胶分三个细分领域:半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶,其中半导体光刻胶代表了最先进的光刻胶技术。在半导体制造中,光刻胶及其配套设备起到支撑产业链的关键作用,光刻胶的质量直接影响到半导体集成电路/器件的制程精度。光刻胶是支撑产业链的关键材料。目前全球光刻胶行业呈现寡头垄断格局,2018年全球光刻胶市场规模合计85亿美元,未来有望继续维持5%的复合增长。国内半导体光刻胶和LCD光刻胶几乎全靠进口,在国际博弈中,光刻胶是我国半导体产业最大软肋之一。集成电路大基金二期布局,光刻胶国产化势在必行。
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西陇科学(002584)光刻胶可以应用于半导体、平板显示等领域,目前仍处于研发送样阶段。
强力新材(300429)KrF/ARF光刻胶用的引发剂按计划进行。