芯片行业的景气度，仍在提升。
近期，三星明确提到要进口更多的ASML极紫外（EUV）光刻机，具体数量为未来5大约50套，总价值量超过了550亿元。而就在不久前，ASML表示，到2023年底ASML在我国的光刻机总数将接近1400台，需求依然非常旺盛。
另外，近期三星和SK海力士作为全球存储芯片的龙头，也计划把HBM产量提高2.5倍。
种种迹象表明，芯片、半导体行业正开始迎来复苏回暖。这一方面得益于经济复苏的进程；另一方面也得益于华为等新款手机企业带来的技术升级刺激。
汽车、手机等消费电子需求端的爆发，必将带动芯片需求的增长，这对产业链企业来说会迎来业绩和估值的戴维斯双击。
从芯片大产业链看，主要分三部分，设计、制造和封测。
设计，是芯片的最上游，像韦尔股份、圣邦股份、卓盛微等都是国内芯片设计领域的龙头，不过最上游的设计软件依然被海外垄断，国内像华大九天已经开始具备国产替代的实力。
制造，相当于根据设计的图纸建造毛坯房，主要就是中芯国际、台积电这样的企业在做。
封测，就是要把毛坯房做成精装修，像长电科技、通富微电、华天科技等是已经是行业龙头。
而要实现设计、制造和封测三个环节，关键就是设备和材料。
比如盛美上海、北方华创、硅片的沪硅产业、靶材的江丰电子、抛光液的安集科技、光刻胶的容大感光等，都是相关龙头。
这其中，设备是最关键的，我们最熟知的应该是光刻机，目前卡脖子还是很明显的。
从半导体设备产业链看，光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是半导体三大主设备，也是价值量最高的地方。
今天我们重点看打破技术垄断的薄膜沉积设备龙头，拓荆科技！
那么，拓荆科技是做什么的？
公司是半导体设备龙头，集成电路基金是第一大股东，主要做薄膜沉积设备的，其产品是PECVD设备、ALD设备和SACVD设备。并且公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，打破技术垄断。
从2022年公司的营收结构看，半导体设备营收占比高达98.8%，而PECVD设备营收占比高达91.65%，可见PECVD设备就是公司的核心旗舰产品。
那么，拓荆科技的优势在哪？
前面我们说过，薄膜沉积设备是半导体三大设备之一。
薄膜沉积设备主要作用是负责硅片表面介质层与金属层的沉积，根据沉积原理不同，又分为 CVD（化学气相沉积）设备、PVD（物理气相沉积）设备和ALD（原子层沉积）设备。
这其中，PECVD设备就是CVD（化学气相沉积）中的一种，在技术优势以及成本等优势下，目前薄膜沉积设备中，PECVD和ALD 是价值量最大的地方。其中PECVD价值量占比高达33%，ALD设备占比为11%，其余的都比较小。
所以，专注PECVD设备的拓荆科技，优势就显得非常明显，踩准了价值量最大的地方。
公司的PECVD设备，已适配国内最先进的28/14nm 逻辑芯片产线，已经被国内晶圆厂14nm 及以上制程企业广泛使用，打破国际厂商的垄断，客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯等，并且公司已经着手10nm 以下制程的产品测试。
未来继续保持技术优势，公司在研发投入上也是下大力气。数据显示，2019到2022年，公司研发投入从0.74亿元增长到了3.79亿元，年复合增速高达72%，不断的强化先进薄膜工艺设备技术优势，建立起了深深的技术护城河。
那么，在这样的优势下，公司的盈利状况如何？
技术突破加上需求端的放量，拓荆科技不论是营收还是利润端近几年增速非常好。2018到2022年，公司营收从0.71亿大幅增长到了17亿元，年复合增速达到了惊人的121.67%，这明显就是技术突破带来的红利。2022年实现净利润3.7亿元，同比大增438%，2023年前三季度净利润2.71亿元，同比增长14.17%。
更为关键的是，公司的合同负债增速非常好，2020到2022年，公司合同负债从1.34亿元大幅增长到了14亿元，年复合增速更是高达222%。合同负债简单的理解就是还没交付的订单，这都是未来的营收。2023年前三季度，公司合同负债就高达14.97亿元，同比增长62.29%，要知道公司2022年全年的营收才17亿元。
大幅增长的合同负债，大大的增强了公司未来业绩增长的确定性。
那么，公司未来的看点在哪？
第一，行业需求带来的量增。
近两年来，消费电子等需求端的释放大大带动了上游晶圆厂的扩产，进而带动了半导体设备市场的强劲增长。数据显示，全球半导体设备市场规模2022年达到了1076亿美元，而在2017年还只有566亿美元，年复合增速高达14%。
而从国内看，在AI人工智能以及算力等加持下，芯片的需求还会加速释放，中芯国际、华虹集团、士兰微、华润微等都在扩张产能，这对半导体设备的需求会是巨大的。2022年国内半导体设备市场规模为283亿美元，从2017年以来年复合增速高达28%，要远远高于全球增速。
并且，国产化替代是唯一选择，也才刚开始，拓荆科技、北方华创、微导纳米、中微公司等已经开始崛起。
第二，技术进步带来的量增。
随着芯片制程的进步，芯片的制造工艺也在发展，芯片越复杂，所需要的薄膜层数就越来，对薄膜沉积设备的数量需求也越多。比如FLASH 存储芯片，制造工艺已经从由2D NAND进化到了3D NAND结构，薄膜沉积设备在生产线的开支从原来的18%增长到了26%，这又会大大释放设备的增量空间。
第三，技术带来的价增。
同时，制造工艺的进步，也需要薄膜沉积设备技术的进步，这导致设备的单价也在不断攀升。比如拓荆科技PECVD设备PF-300T 单价在2018年是349.11万元，到2020年上涨到了373.46万元。
从公司的毛利率提升中也能看出来，2018以来，公司的毛利率一直处于上涨的状态，明确要高于竞争对手。
所以，在消费电子复苏和国产替代趋势下，拓荆科技作为行业绝对设备龙头，充分享受量、价齐升的逻辑，成长性明确。
当然，投资是跟踪的过程，逻辑最重要，不做投资意见。
